Ученые из Нижнего Новгорода создали технологию очистки кремния для чипов
ИТ-бизнес

Ученые из Нижнего Новгорода создали технологию очистки кремния для чипов

Сегодня, 15:43
390 0

Исследователи Университета Лобачевского запатентовали метод глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния, необходимого для производства современных полупроводников. Разработка позволяет получать сверхчистые абразивные материалы с заданными параметрами, что критически важно для качества полировки кремниевых пластин и создания отечественной компонентной базы для микроэлектроники.

Работа над проектом ведется с 2024 года в рамках программы «Приоритет-2030». Ученые из лаборатории инженерной химии НИИ химии ННГУ уже подготовили технологическую линию и регламент получения продукта. Полученные наночастицы отличаются высокой однородностью и стабильностью, что позволяет использовать их в процессах химико-механической полировки, где требования к чистоте материалов максимально жесткие.

Ксения Отвагина, руководитель исследования, пояснила, что создание собственных материалов с контролируемыми характеристиками снижает зависимость отрасли от импортных поставок. Сейчас разработка проходит стадию опытно-технологической отработки и тестируется индустриальным партнером. Ректор вуза Олег Трофимов отметил, что успех проекта доказывает эффективность университетской науки в решении прикладных задач по созданию полного цикла производства микроэлектроники.

Поделиться

Комментарии (0)

Оставить комментарий

Пока нет комментариев. Будьте первым!