
Ученые из Нижнего Новгорода создали технологию очистки кремния для чипов
Исследователи Университета Лобачевского запатентовали метод глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния, необходимого для производства современных полупроводников. Разработка позволяет получать сверхчистые абразивные материалы с заданными параметрами, что критически важно для качества полировки кремниевых пластин и создания отечественной компонентной базы для микроэлектроники.
Работа над проектом ведется с 2024 года в рамках программы «Приоритет-2030». Ученые из лаборатории инженерной химии НИИ химии ННГУ уже подготовили технологическую линию и регламент получения продукта. Полученные наночастицы отличаются высокой однородностью и стабильностью, что позволяет использовать их в процессах химико-механической полировки, где требования к чистоте материалов максимально жесткие.
Ксения Отвагина, руководитель исследования, пояснила, что создание собственных материалов с контролируемыми характеристиками снижает зависимость отрасли от импортных поставок. Сейчас разработка проходит стадию опытно-технологической отработки и тестируется индустриальным партнером. Ректор вуза Олег Трофимов отметил, что успех проекта доказывает эффективность университетской науки в решении прикладных задач по созданию полного цикла производства микроэлектроники.
.jpeg)


Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!