
Ученые из Нижнего Новгорода запатентовали очистку кремния для чипов
Исследователи Университета Лобачевского разработали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния, необходимую для производства современных микросхем. Новое решение позволяет создавать высокочистые полировальные суспензии, которые критически важны для обработки полупроводниковых пластин и снижения зависимости российской промышленности от импортных материалов.
Работа, стартовавшая в 2024 году в рамках программы «Приоритет-2030», вышла на этап опытно-технологической отработки. Ученые из лаборатории инженерной химии НИИ химии ННГУ научились управлять размером, формой и однородностью наночастиц, добиваясь минимального содержания примесей. Этот контроль напрямую влияет на качество и производительность будущих электронных устройств, так как именно от характеристик абразива зависит точность полировки пластин.
На текущий момент исследователи подготовили технологическую линию и регламент выпуска продукта. Разработка уже передана индустриальному партнеру для проведения испытаний. По словам руководителя проекта Ксении Отвагиной, создание собственных материалов с заданными параметрами — необходимый шаг для развития отечественной микроэлектроники. Ректор вуза Олег Трофимов добавил, что университет стремится обеспечить полный цикл: от фундаментальных изысканий до серийного внедрения, отвечая на актуальный запрос отрасли в условиях ограничений поставок.
.jpeg)


Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!